随着科技的进步，多种显微成像技术应运而生，其中共聚焦显微镜和光片显微镜因其优异的光学切片能力备受关注，这两类设备分别依托共聚焦成像与光片成像技术实现切片功能，且在成像原理、适用场景及实际应用效果上存在显著差异。下文，光子湾科技将深入对比这两种成像技术的核心特点，为科研人员根据研究目标选择适配工具提供参考。

一、光学切片的作用

普通光学显微镜会同时照亮样本所有深度，探测器接收焦平面与非焦平面光线，导致 “信息混杂”；即便优化参数增加景深，也会牺牲分辨率或 z 轴信息。光学切片的核心是空间滤波：通过特定光学设计仅保留焦平面信号，获取单一深度 “切片图像”，连续采集后拼接成三维图像。

二、共聚焦成像的技术特性

共聚焦显微镜中光学切片的示意图

共聚焦成像的核心是单点照明 + 针孔滤波，因 “照明与检测焦点重合” 得名，共聚焦显微镜正是这一技术的载体。

其光路设计具有对称性：激发光经高数值孔径（NA）物镜聚焦为衍射极限单点光斑（直径 d≈λ/NA，λ 为激发光波长），样本荧光信号沿原光路返回，需通过 “针孔光圈” 才能被探测器接收，针孔可滤除非焦平面杂散光，充当 z 轴空间滤波器。图像生成需通过扫描系统控制光斑在 x-y 平面逐点、逐行移动，同步将光强转化为数字信号，拼接成光学切片。

性能上，共聚焦线频率高，但为保证信噪比，常规帧率≤10 帧 / 秒；且适配高 NA 物镜，横向分辨率达数百纳米，焦平面图像均匀性优异。此外，共聚焦基于标准同轴光学显微镜，可切换明场、相差等常规模式，还是多光子激发、STED 超分辨率等技术的基础平台。

三、光片成像的技术特性

 光片显微镜中光片成像的示意图

光片成像是光片显微镜的核心成像技术，其核心原理是正交光片照明 + 相机并行检测，用筒镜生成光片实现荧光成像，通过扫描垂直于观察轴的细激光束，进一步提升灵活性。原理上，光片成像沿垂直于观察轴方向照射样本，形成微米级薄光片，仅照亮焦平面；探测器（如 CCD 相机）与照明方向正交，并行采集整个焦平面信号，无需逐点扫描，大幅提升成像速度。

其核心优势在于低光毒与高速度：仅焦平面被照明，非焦平面区域几乎无激发光；帧率仅受相机限制，适配动态过程成像。同时，z 轴照明均匀，无荧光强度衰减问题。但局限则是发射光需穿过样本，样本混浊时会降低图像对比度，横向分辨率低于共聚焦显微镜。

四、共聚焦成像与光片成像技术差异

照明方式：共聚焦沿 z 轴垂直照明，光片垂直于 z 轴水平照明；

检测方式：共聚焦逐点串行接收，光片相机并行接收；

适用场景：共聚焦适固定样本的高分辨率成像，光片适配活细胞动态成像。

共聚焦与光片成像的本质差异，在于 “实现焦平面选择性照明与检测” 的方式。共聚焦成像以 “高分辨率” 为优势，凭借对微观精细结构的三维成像分析能力，成为基础科研中的通用工具；光片成像则以 “低光毒、高速度” 为核心，可用于活细胞动态成像。明确二者的技术边界与应用价值，能帮助科研人员更高效地匹配研究场景，让光学切片技术更利于研究目标的实现。

光子湾3D共聚焦显微镜

光子湾3D共聚焦显微镜是一款用于对各种精密器件及材料表面，可应对多样化测量场景，能够快速高效完成亚微米级形貌和表面粗糙度的精准测量任务，提供值得信赖的高质量数据。

技术支持：199-6293-0018

超宽视野范围，高精细彩色图像观察

提供粗糙度、几何轮廓、结构、频率、功能等五大分析技术

采用针孔共聚焦光学系统，高稳定性结构设计

提供调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能

光子湾共聚焦显微镜以原位观察与三维成像能力，为精密测量提供表征技术支撑，助力从表面粗糙度与性能分析的精准把控，成为推动多领域技术升级的重要光学测量工具。