共聚焦显微技术驱动的超疏水表面工业化制备——表面粗糙度偏度调控新策略
超疏水表面因其在防冰、自清洁、油水分离等领域的潜在应用备受关注。传统制备方法依赖含氟化合物或多步骤复杂工艺,严重限制其应用。本文提出一种基于大气压等离子体技术(AP-DBD)的简易策略,通过调控基材表面粗糙度的偏度(Rskᵐ),在工业金属箔上成功制备了高性能超疏水涂层。
研究结合光子湾3D共聚焦显微镜的高精度三维形貌分析技术,揭示了微米级粗糙度对称性对表面润湿行为的决定性作用,为超疏水表面的工业化制备提供了新思路。
实验方法
基底制备
冷轧铝箔:通过传统研磨技术控制表面滚压纹路的粗糙度。
电沉积铜箔:通过电镀工艺调节表面微米级纹理,并用氮气/氧气等离子体预处理。
涂层沉积
采用AP-DBD PE-CVD技术,以六甲基二硅氧烷(HMDSO)为前驱体,在氮气氛围中沉积纳米粗糙PDMS涂层。工艺参数:功率密度1 W/cm²,前驱体浓度1000 ppm,频率22.5 kHz。
表征手段
化学组成:傅里叶红外光谱(FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)。
表面形貌:扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、共聚焦显微镜。
润湿性:接触角测量仪(WCA、CAH)。
涂层化学与纳米结构表征
超疏水pp-PDMS涂层电沉积铜箔(样品#12)的傅里叶变换红外光谱(FTIR)
化学组成分析
FTIR光谱显示,所有样品在 1000–1200 cm⁻¹ 处均出现 Si-O-Si 特征吸收峰,证实 PDMS 交联网络的形成;1260 cm⁻¹ 处的 Si-(CH₃)₂弯曲振动峰表明涂层具有疏水甲基基团。
XPS分析表明,涂层表面元素组成为硅(27%)、氧(24%)、碳(41%)、氮(8%,原子百分比),且未检测到基底金属元素(铝或铜),说明涂层均匀覆盖基底表面。
超疏水pp-PDMS涂层电沉积铜箔(样品#12)的扫描电子显微镜(SEM)图像
电沉积铜箔上pp-PDMS薄膜的原子力显微镜(AFM)三维地形图(样品#12)
纳米形貌特征
SEM 与 AFM 图像显示,PDMS 涂层由 200–300 nm 的颗粒聚集体组成,单个初级颗粒尺寸约 50 nm,纳米级粗糙度参数均一(算术平均偏差 Saⁿ=14 nm,偏度 Sskⁿ=0.46),与荷叶表面蜡质晶体尺寸(约 100 nm)高度匹配,为超疏水性提供了纳米级结构基础。
基底微米级粗糙度对润湿性的影响
润湿性差异:相同涂层条件下,电沉积铜箔基底样品(如 #12、#13、#16)表现出优异的超疏水性能(WCA>150°,CAH<10°),而冷轧铝箔基底样品(如 #3)虽 WCA>150°,但 CAH 高达 33°,水滴在表面显著粘附,甚至倒置时仍不脱落。
电沉积铜箔(0.1 < Ram < 0.2)的共聚焦显微镜三维地形图像

水接触角(WCA)与粗糙度参数的关联图:(a)算术平均偏差(Ram);(b)平均高度(Rcm);(c)平均宽度(RSmm);(d)偏斜度(Rskm)
粗糙度参数分析
通过共聚焦显微镜对基底微米级粗糙度进行量化,发现:
Ram(算术平均粗糙度):0.1-1.3 μm范围内,WCA与Ram无明确相关性。
Rskm(粗糙度偏斜度):当Rskm接近0(对称分布)时,WCA最高;Rskm负偏离(谷占优)或正偏离(峰占优)均导致WCA下降。
机理解释:对称粗糙度分布(Rskm≈0)利于维持Cassie–Baxter态,减少液固接触面积;而冷轧铝箔的宽槽结构(Rskm<0)使水滴易渗入沟槽,转向Wenzel态。
超疏水表面的稳定性与应用潜力
稳定性:涂层在空气中存放6个月、浸水或乙醇后仍保持超疏水性,pH 2-14范围内稳定。
工业化优势:AP-DBD技术无需溶剂,适用于卷对卷生产,可扩展至纺织、木材等基材。
本研究揭示了表面粗糙度偏斜度(Rskᵐ)对超疏水性能的决定性作用,对称分布(Rskᵐ≈0)是实现高WCA与低CAH的关键。未来工作将探索更多基材(如金属网格)的应用,推动超疏水技术在微流体、油水分离等领域的商业化。
光子湾3D共聚焦显微镜

光子湾3D共聚焦显微镜是一款用于对各种精密器件及材料表面,可应对多样化测量场景,能够快速高效完成亚微米级形貌和表面粗糙度的精准测量任务,提供值得信赖的高质量数据。
◼超宽视野范围,高精细彩色图像观察
◼提供粗糙度、几何轮廓、结构、频率、功能等五大分析功能
◼采用针孔共聚焦光学系统,高稳定性结构设计
◼提供调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能
通过简单且可扩展的AP-DBD工艺与光子湾3D共聚焦显微镜的先进三维成像与量化分析能力,结合基材微米粗糙度与纳米涂层,成功制备了高性能超疏水表面。这一发现为工业级超疏水材料的开发提供了新思路,凸显了表面形貌对称性的科学价值。
原文出处:《A simple and scalable approach towards the preparation of superhydrophobic surfaces importance of the surface roughness skewness》